ガスを瞬間的に励起させ、波長の短い紫外線を放つ装置だ。波長が短いほど細い回路を刻めるため、波長193ナノメートルのフッ化アルゴンエキシマレーザーがDUV露光装置の標準的な光源として使われる。同じ周波数では出力が高いほど1時間あたりの処理枚数が増えるため、出力はそのまま装置の生産性を左右する。