하이NA EUV

빛을 모으는 렌즈를 키워 기존 EUV보다 더 가는 회로를 한 번에 새길 수 있는 노광장비다. 여러 번 나눠 찍던 공정을 줄여 원가와 생산량을 함께 개선할 수 있지만, 장비 한 대 값이 기존 EUV보다 훨씬 비싸고 공정 전체를 다시 맞춰야 해서 도입 시점을 두고 인텔과 삼성전자, TSMC의 판단이 갈린다.

예측 · 적중 기록 2건

• 채점 대기 장비는 이미 샀는데, 삼성은 2030년에 쓰겠다고 했다삼성이 하이NA EUV를 양산 라인에 처음 세우는 공정이 A10인지, 그보다 위 공정인지로 채점한다.
• 채점 대기 인텔, 2028년 양산 시점 확정... 월가 예상보다 1년 빠르다최종 확인(2028년 대량양산)까지는 멀어 중간 신호로 채점한다. 인텔 2026년 3분기 실적(10월 23일경 예정)에서 14A 내부 제품용 리스크 생산 가이던스가 재확인되는지, 2027년 하반기 일정에 변화가 있는지 확인한다. 실제 리스크 생산 개시 여부는 2027년 하반기에 재확인한다.

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