ハイNA EUV

光を集めるレンズを大きくし、従来のEUVより細い回路を一度で焼ける露光装置。焼く回数を減らして原価と生産量を同時に改善できるが、装置1台の価格が従来EUVよりはるかに高く、工程全体を合わせ直す必要があるため、導入時期をめぐってインテル、サムスン電子、TSMCの判断が分かれている。

予測・的中記録 2件

• 採点待ち 装置はすでに買った、それでもサムスンは2030年に使うと言ったサムスンがハイNA EUVを量産ラインに初めて据える工程がA10か、それより上の工程かで採点する。
• 採点待ち インテル、2028年量産を確定...ウォール街の想定より1年早い最終確認(2028年の大量生産)は先の話のため、中間シグナルで採点する。インテルの2026年第3四半期決算(10月23日頃予定)で14A社内向けリスク生産のガイダンスが再確認されるか、2027年後半の日程に変化があるかを確認する。実際のリスク生産開始は2027年後半に再確認する。

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