装置はすでに買った、それでもサムスンは2030年に使うと言った

サムスン電子が、次世代の露光装置であるハイNA EUVを1ナノ工程から量産に使うと明らかにした。 2ナノと1.4ナノに入れる計画を後ろへずらしたもので、1ナノの量産は2030年ごろに置かれている。 8月11日に水原コンベンションセンターで開かれた次世代リソグラフィ学会で、同社の朴昌珉マスターがロードマップを示した。 2ナノと1.4ナノの量産にハイNAを適用しようとしたが、技術をさらに詰める必要があると述べている。

露光とは何をする工程か

露光はウェハーの上に回路の模様を光で写し取る工程だ。 使う光の波長が短いほど細い線が引ける。 これまで使われてきたフッ化アルゴンは波長193ナノメートル、EUVは13.5ナノメートルで、およそ13分の1にあたる。 フッ化アルゴンなら何度も分けて焼く模様を、EUVは一度で焼ける。 焼く回数が減れば原価が下がり、生産量が上がる。 ハイNAはそのEUVの次の版だ。 NAはレンズが光をどれだけ広く集められるかを表す値で、大きいほど細い線が引ける。

装置はすでに契約されていた

ずれたのは購入ではない。 昨年10月、台湾の調査会社トレンドフォースは、サムスンがASMLのハイNA装置EXE:5200Bを2台、約1兆1,000億ウォンで購入すると伝えた。 そのとき示された用途は2ナノのファウンドリ量産で、Exynos 2600とテスラのAIチップが名前として並んでいた。

サムスン、ASMLのハイNA EUVを2台購入か、2026年上半期の量産が目標 (トレンドフォース、2025-10-16)

출처: trendforce.com

その報道どおりなら、今年上半期に2台目が入り2ナノの量産に付くはずだった。 今回の発表はその席をA10へ移す。Aはオングストロームで、A10が1ナノにあたる。 同じ装置が研究と試作の段階により長くとどまるという意味に読める。

インテルは14Aに入れる

同じ装置を前にして、各社の時計は別々に動いている。

同じ機械が目の前にあり、分かれているのは準備ができているかという判断のほうだ。 TSMCは三社で最も後ろに立つ。値段が高いことを理由に導入を遅らせたと伝えられ、トレンドフォースは同社が1.4ナノから商用配備を計画していると記した。

ASMLは数か月内に最初のハイNA製品を見込み、TSMCはコストを理由に導入を遅らせた (AnySilicon、2026-05-26)

출처: anysilicon.com

一台で数百億円規模の装置をいつ量産ラインに立てるかは、原価と歩留まりを同時に動かす。 先に入れれば学ぶ時間を買えるが、その代金は売る製品に乗せることになる。遅く入れれば費用は抑えられるが、学びも遅れる。

2030年までに残る二つの分かれ道

サムスンは2ナノをすでに量産しており、1.4ナノは2029年、1ナノは2030年に置いている。 その前にハイNAがラインへ入れば今回の発表は前倒しされたことになり、 2030年になっても入らなければ、装置を買った時点と使う時点の距離は5年を超える。 どちらにせよ判断の根拠は学会での発言ではなく、ラインに立った装置の台数になる。