Its performance is inferior to ASML’s.
Some components are imported from Japan, but most are made in China.
Production volume remains far too low. Twenty units next year is nowhere near enough.
中国が国産の深紫外線(DUV)露光装置で半導体の量産を始めた。SMIC、華虹半導体、CXMTの3社が今年最初のロットを受け取る。ただ性能はASMLの装置に及ばず、生産量も多くない。この一歩を自立の証と見るか、まだ道半ばと見るかは意見が割れる。 27日、情報メディアのジ・インフォメーションによると、国家の支援を受ける上海の企業が液浸DUV露光装置の量産を開始した。半導体アナリストのJukanはこのニュースとともに二つの注意点を挙げた。
露光装置は半導体ウエハーに回路パターンを焼き付ける装置で、半導体工程の中でも最も高価で代替が難しい設備とされる。ASMLは最新世代の極端紫外線(EUV)露光装置をほぼ独占的に供給し、世界のファウンドリの生命線を握る。今回中国が作ったのはその一世代下にあたるDUV装置だ。単一露光で28ナノ級の回路を焼き付けられ、複数回露光を重ねる多重露光を使えば7ナノ級まで届く。
Jukanは二点を指摘した。一つは性能で、ASML製品に比べて劣る。もう一つは部品で、大半は中国製に置き換えたものの、一部の重要部品は依然として日本から輸入している。完全な自立ではないということだ。生産量も課題だ。今年の出荷は5台前後、来年も20台規模にとどまる見通しで、SMIC・華虹半導体・CXMTの3社の需要を満たすには程遠い数だ。
政府支援のもと国産DUV装置が初めて実際の量産ラインに投入されたこと自体が象徴的な一里塚だ。
性能はASMLに劣り、来年の20台では3社の需要すら満たせない。
今すぐASMLの地位を揺るがす水準ではない。ただ中国が露光装置国産化の最初の一歩を踏み出したのは事実で、台数と性能がどう伸びていくかは見ておく価値がある。台湾・韓国・日本が長く握ってきた装置サプライチェーンに、小さいながらひびが入り始めた合図だからだ。
Why it matters · 露光装置は半導体サプライチェーン最後のボトルネックであり、中国の国産化の成否が今後数年の業界勢力図を左右する変数になる。
考えるべき点 · 中国の国産DUV露光装置は本当の脅威の始まりか、それともまだ時期尚早か?
採点待ち2027年末に、同社のDUV露光装置の実際の出荷台数が20台前後に達したかを採点。